“我马上操作。”
要是真能造3纳米芯片,那可不是小小的科技震撼,而是向整个半导体芯片行业扔了个蘑菇弹,要颠覆整个行业的事情了。
林天喃喃自语。
“趁着天没亮,我们尽快测试光束的可行性吧。”陈星提醒一句。
“我们没有单独完整的SOC上帝芯片光掩膜版,只能用两块阴阳掩膜版堆叠在一块形成完整图案,这又会出现个问题。”
林天点了点头回应道。
存放在特定区域的半导体硅片被静电吸盘吸起,运送到清洗区域,洗掉附着在半导体硅片表面的灰尘和杂质。
自动光刻。
像似给陈星几人解释,又像似说给自己听。
当然了。
前提是可以能光刻成功。
“这句话在理。”
自动清洗。
两块光掩膜版已经重叠,他们在特定
这也是为什么第一期的光刻工厂只有5000平的原因,因为建造太大也没用,像静电吸盘和各类自动化运输的设备,都是需要定制化购买的,关键有些设备国内还没有,比如静电吸盘设备。
在半导体领域,可不仅仅光刻机和紫外光有纳米等级,光刻胶同样有纳米等级区分。
又经过了十分钟的参数调试,排除外故障情况,林天输入了确定工作的指令。
自动涂胶。
他们现在可是关了全深城的电力供应,哪怕是凌晨4点钟,但依然会对城市造成影响。
在清洗完成以后,半导体硅片会通过特殊运输通道,运往下一個步骤进行烘烤,待半导体硅片彻底干燥将继续运往下一个步骤,涂抹光刻胶。
“为了解决这个问题,我加大了粒子加速器的功率,让电子运动的速度再次增加。”
“理论上来说,运行功率的加大,会同步放大电子运动的速度,电子在环形存储器的速度越快,辐射出的极紫外光能量就越强,但我并不能确定这个数值是不是正确的,只能说理论可行。”
光刻工厂没有人测试过,谁也不知道行不行。
现在又因为光掩膜版限制,林天只能加大功率,这给测试又增添了不小的难度。
“试试就知道了。”
陈星默默举起手机拍摄。
虽然他们在操控室,但面前的屏幕有显示洁净室的画面,根本不需要亲自前往。
林天微微颔首,没有说话,他双眸注视着监控画面,神色也显得格外紧张。
烘干冷却,涂满光刻胶的半导体硅片已经被运往了光刻区域,只剩下最后的光刻步骤。
随着透镜组移动到指定位置,13.5纳米波长的极紫外光发生了折射,精准地照射在两块图案互补的光掩膜版上,而光掩膜版上面的完整图案被照射后,最终落到待曝光的半导体硅片表面。
“滋——”
ArF光刻胶遇到光源,内部开始发生化学反应。
而ArF光刻胶又分正胶和反胶,这次曝光用的是正胶,被曝光区域的光刻胶会发生化学反应,没曝光区域则不受到影响。
一块区域被曝光后,透镜组立马移动,侧开照射光源,待移动平台调整后继续移回正位,对下一个区域进行光刻曝光。
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