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第346章 半导体产业链研项目断推进(第1页)

“魏院士边研进展很快,续会专业公司和您对接,尽快将技术启用,实现量产!”

对魏院士边研取得成绩,李易当然感到开心。

整个半导体产业链,李易投资了数百亿资金进去了。

此外,和国家集成电路大基金重叠。

半导体国家重点扶持项目。

出了研成果,都应李易去考虑推广。

官方也会牵线搭桥,将相关技术利用起。

当然,些技术突破,些需要使用全新技术和工艺。

也需要魏院士边团队提供技术支持。

目前取得技术突破,只整个电子特气其中部分。

许多技术需要攻克。

同时,需要提高纯度,用在更高度芯片制造上。

实验室技术,和量产应用,肯定同。

此外,目前技术突破,只可以说……需要断提升、升级、优化。

半导体产业升级换代太快了!!

方面技术了突破,魏院士也带着团队,断进行升级优化。

“光刻胶团队也技术突破……只能说,星海科技工智能技术辅助,大大加快了整个研进展。”

“特别材料领域研,工智能技术加持,效果确实乎想象!”

魏院士旗下光刻胶项目研,也取得突破了。

而且euv光刻胶。

光刻胶可分半导体光刻胶、平板显示光刻胶和pbsp;其技术壁垒依次降低。

其中半导体光刻胶国产技术和国外先进技术差距最大。

目前市场主流:krf、arf主流。

据世界半导体产业数据,高端arf干式和浸式光刻胶共占市场份额。

krf光刻胶和g线i线光刻胶各占和市场份额。

目前,arf光刻胶集成电路制造领域,需求量最大产品。

芯片半导体快展度,arf和krf光刻胶面临广阔市场机遇。

而krf光刻胶主要用于寸晶圆,n品种。

arf光刻胶主要用于寸晶圆,n品种。

euv光刻胶,主要用于寸晶圆,而且n品种。

目前,euv光刻胶算主流。

但未……肯定euv光刻胶才主流。

李易让研团队主要攻关项目,就半导体——euv光刻胶。

半导体光刻胶技术壁垒最高、最大、最难!

euv光刻胶目前主流,&xeoo未!

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